RTA系列快速热退火炉 |
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分类 | Advance Riko 红外金面反射炉 |
型号 | RTA |
品牌 | Advance Riko |
产地 | 日本,进口 |
RTA系列快速热退火炉
RTA系列可处理2~12 英寸(50~300mm)的样品,10s内即可到设置的退火温度。
该炉体采用水冷壁的结构,结合红外加热的高能量密度,近红外的波长快速升温特点,搭配高精度,快速响应的温控器进行精确温度控制。
RTA系统可满足用户对于工艺配方的控制(温度控制,升降温速率控制,气氛及气体流量控制等)。RTA系统有助于找到最佳的热处理方式
应用 |
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· 离子注入后的活化退火 |
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· 沉积氧化膜的退火 |
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· 欧姆电极合金化 |
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· PZT,SBT和其它铁电薄膜的结晶退火 |
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· 硅化物及自对准硅化物的生成 |
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· 发光元件,半导体激光基板的热处理 |
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· 超浅结的生成 |
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· 铁电电容器沉积 |
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· 栅氧化膜的生成 |
特点:
· 最高升温速率可达200℃/s
· 可搭配自动传样机器人
· 可连接半导体制造设备
· 各个加热区的灯管功率单独可控,可以对不同尺寸的样品实现均匀加热
参数: