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原子层沉积

 发表时间:2023-08-17

SAL-1000Series是由日本AGUS生产的桌面型ALD原子层沉积设备,可搭载2路前驱体。适用于4英寸(φ 100mm)基片的沉积,并可搭载粉末样品架和手套箱。

SAL-1000SERIES.gif

 

SAL-1000Sseries原子层沉积设备具备如下特点:

 

1. 良好的成膜性能,膜厚均匀性高,≤3%

     ·对于内孔、凹槽与高深宽比结构具有良好的沉积均匀性;

    · 膜厚可精准控制达一个原子层;

    · 大面积制程可达到无孔洞薄膜(Pin Hole free)

    · 极高的重复性及稳定性

    · 材料缺陷密度低

    · 可成长非晶型或结晶薄膜(选择温度)

ALD技术对比.gif

2. 优异的真空性能,真空度≤5Pa

3. 触控操作,简单易用;

    ·触摸屏使用户可以轻松设置配方或沉积过程,并检查每个驱动系统的运动。

     ·可进行自动沉积,并在沉积完成后自动完成N2排放。

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    ·手套箱的真空排气和惰性气体的引入也可自动完成。

4. 配件丰富,可满足多种试验需求:

基底旋转架、粉末样品配件、手套箱、臭氧发生器、尾气处理设备、200℃前驱体的加热器,干式真空泵等;

ALD粉末样品支架说明.gif

粉末沉积配件:倾斜框架可调整的角度为0 ~ 45°,更便于粉末成膜。单次可对5cm3的粉体进行表面沉积;

SAL-1000配件.gif

 

原子层沉积其他产品:http://www.shanjianmingyue.com/product.aspx?cid=5

SAL-3000 ALD原子层沉积系统 
SAL-3000Plus ALD原子层沉积系统

 

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